透明陶瓷的透光率是衡量其光學性能的核心指標，受原料純度、燒成工藝及后處理技術共同影響。輥道窯因其連續(xù)生產、熱場均勻等優(yōu)勢，逐漸成為透明陶瓷大規(guī)模制備的設備。
　　一、輥道窯影響透光率的關鍵因素
　　1.溫度均勻性與晶粒生長控制
　　問題：輥道窯長度方向溫度梯度可能導致陶瓷晶粒尺寸不均，引發(fā)光散射。
　　解決方案：
　　采用多區(qū)獨立控溫系統(tǒng)，將窯爐縱向溫差控制在±3℃以內，通過CFD模擬優(yōu)化燒嘴布局，減少局部過熱區(qū)域。
　　2.氣氛控制與雜質排除
　　問題：輥道窯開放式結構易導致氧氣滲入，促進晶界玻璃相氧化，降低透光率。
　　解決方案：

　　引入氮氣-氫氣混合氣氛（N?:H?=95:5），維持還原性環(huán)境；采用動態(tài)密封輥棒設計，減少氣氛泄漏。

　　3.冷卻速率與殘余應力調控
　　問題：快速冷卻可能導致微觀裂紋擴展，形成光散射。
　　解決方案：
　　分階段冷卻：1500℃至1000℃采用2℃/min慢冷，1000℃以下加速冷卻；引入輥道窯尾部強制風冷系統(tǒng)，實現冷卻速率控制。
　　輥道窯通過控制溫度均勻性、氣氛組成及冷卻速率，可顯著提升透明陶瓷的透光率。優(yōu)化后的工藝可使氧化鋁透明陶瓷透光率突破90%，滿足光學應用需求。